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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務商

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PVD鍍膜需要在真空環(huán)境下進行?

時間:2020-07-15    點擊數(shù):

PVD的全稱是Physical Vapor Deposition,即物理氣相沉積。是一種物理狀態(tài)下的物質轉移過程,可以將原子或分子狀態(tài)下的物質從一個物體轉移到另一個物體上,從而使其具有更加優(yōu)異的性能。

PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進行,這項技術稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產生綜合作用形成等離子體,經過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。這層膜細密均勻,結合力強,硬度高,防腐耐磨,具有良好的導電性和自潤滑性能,同時色澤豐富多樣。

  而且,由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進行,而真空中的大物分物質已被排出,所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小,顏色就不會雜亂,也沒有膜層脫落的后顧之憂。

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