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真空濺射離子鍍膜（PVD)服務商

致力于高端涂層技術的研究提供成套解決方案

189-1326-8389湯生

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設備展示技術優(yōu)勢

PVD產品優(yōu)勢、特點介紹:

PVD 技術(物理氣相沉積Physical Vapor Deposition) ，是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術，它具有鍍膜層致密均勻、附著力強、繞射性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點，是表面處理工程領域較佳的選擇。PVD 技術包括真空蒸鍍、濺射膜和離子膜。PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態(tài)下，等離子場下的輝光反應，亦是一個高凈化處理過程；鍍層的原材料有鈦、鉻、不銹鋼、石墨、鈦鋁等根據客戶的需要來加以選擇，PVD技術是一種真正無污染的環(huán)保型表面處理方法。采用磁控離子濺射鍍及多弧離子鍍等先進綠色環(huán)保真空鍍膜工藝，并與其它表面處理效?果：如拉絲、高光（機械拋光）、麻面（噴砂）、亞光、雷雕等相結合大大增加了產品的附加值。
PVD膜層的特點：

具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點、表面細膩光滑并富有金屬光澤同時顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.2μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ～ 2μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能。PVD膜層抵抗力強，在常規(guī)環(huán)境下具有抗氧化、不褪色，不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷，且可鍍材料廣泛，與基體結合力強。