PVD鍍膜工藝與濺射鍍工藝的區(qū)別

時間：2020-07-20 點擊數(shù)：

在手機蓋板領域，PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來越廣，無論在金屬、玻璃、陶瓷及復合材料后蓋上，都需要PVD鍍膜，來提升手機蓋板的顏值及逼格，那么如何通過鍍膜來提升產品的靚麗與品位呢？有哪些主流的工藝？今天我們來了解一下。

一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位？

1. 玻璃內表面鍍反光膜

2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜，增加手感，內表面鍍顏色膜

3. 復合板材鍍反藍光（冰焰藍）

3. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天，我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。

蒸發(fā)鍍膜，是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面，此種成膜方式決定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動能太低，填充密度太低。

電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內在機理：

影響種類	問題點	內在機理
溫度	成膜溫度影響產品顏色	溫度高填充密度高，漂移少
真空室氧化能力的影響	大清洗前波長偏長，之后偏短	水蒸氣可以認為就是氧氣。鍍膜速度直接影響氧化能力，即膜層中金屬或低價氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發(fā)出來的物質是高價氧化物、低價氧化物和金屬單體的混合物，更多的金屬單體或低價氧化物在充大氣后會俘獲更多的氧原子，使膜層致密。
空氣濕度大時膜層顏色不好控制
開爐時間長波長偏長
鍍膜慢波長偏長
膜料分解狀況的影響	貌似電子槍光斑大小有影響	光斑位置影響光斑大小。燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。掃描足夠快時是面蒸發(fā)，慢時依舊點蒸發(fā)，這當然也相當于“光斑大小”問題。光斑小，蒸發(fā)區(qū)域溫度高，材料分解嚴重，金屬單體和低價氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影響
貌似燈絲變形也有影響
貌似掃描快慢也有影響
………

磁控濺射鍍膜，通過在靶材與真空室壁之間施加電場，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動能較蒸發(fā)高出兩個數(shù)量級，填充密度高達98%，折射率高且穩(wěn)定。