PVD是Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)。它是指在真空條件下將材料物理沉積在待鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

1. 金屬外觀。

2. 顏色均勻

3. 耐用的表面，在各種基本空氣和陽(yáng)光直射的環(huán)境中保持良好的外觀。

4. 顏色深沉明亮。

5. 可以減少清洗和拋光黃銅或金鍍層的時(shí)間和成本。

6. 對(duì)環(huán)境無(wú)害，避免化學(xué)中毒。

7. 生物相容性。