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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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PVD工藝的目的是什么?

時(shí)間:2020-08-16    點(diǎn)擊數(shù):

濺射法利用帶有電荷的離子在電場(chǎng)中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn),將離子引向欲被濺射的物質(zhì)做成的靶電極。在離子能量合適的情況下,入射離子在與靶表面原子的碰撞過(guò)程中將后者濺射出來(lái)。這些被濺射出來(lái)的原子帶有一定的動(dòng)能,并且會(huì)沿著一定的方向射向襯底——玻璃基板,從而沉積在基板表面形成薄膜。

?在上述薄膜沉積的過(guò)程中,離子的產(chǎn)生過(guò)程與等離子體的產(chǎn)生或氣體的放電現(xiàn)象密切相關(guān)。?

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