PVD鍍膜技術(shù)所制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了各大制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)高性能且可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在各個(gè)制造業(yè)領(lǐng)域中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

首先，來跟著小編認(rèn)識(shí)一下什么PVD？

PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)又為三大類，分別是真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。

PVD鍍膜技術(shù)它的原理呢，是在真空條件下，通過大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

小編在給大家介紹一下磁控濺射鍍膜，磁控濺射鍍膜是在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng)，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數(shù)量級(jí)，填充密度高達(dá)98%，折射率高且穩(wěn)定。

小編認(rèn)為PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍相比唯一的相同點(diǎn)是，都是通過一定的方式將一種材料覆蓋在另一種材料的表面。但兩者也有不同點(diǎn)，PVD膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多，而且不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

PVD真空鍍膜也在塑料行業(yè)上有著廣泛的使用，因?yàn)樗芰暇哂腥菀壮尚偷奶攸c(diǎn)，所以他的成本很低，質(zhì)量也很輕，具有耐腐蝕等特點(diǎn)，通過PVD真空鍍膜可以使塑料的表面具有導(dǎo)電的性能，而且PVD涂層也能夠減少它的吸水率，等鍍膜完成后，針孔也會(huì)隨著減少，吸水率也會(huì)降低，經(jīng)過鍍膜的材料表面的金屬光澤被彩色化，裝飾性能也具有很大的提升。

目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，黑色，灰黑色等。通過控制鍍膜過程的相關(guān)參數(shù)，就可以鍍出我們所需要的顏色;鍍膜結(jié)束后使用相關(guān)的儀器對(duì)顏色進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，確定所鍍出的顏色能否滿足我們的要求。