在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物質離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其反應物蒸斷在 基片上。離子鍛把輝光放電、等離子體技術與真空蒸發(fā)鍛膜技術結合在一起。

01、原理

真空離子鏡膜是真空蒸發(fā)和真空濺射鍛膜結合的一種鍛膜技術。離子鍛的過程是在真空條件下， 利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質（膜材）部分離化， 在工作氣體離子或者被蒸發(fā)物質的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質或其反應物沉積在被錦基片表面的過程。

02、特點

( 1 ) 鋪層附著性能好，膜層不易脫落

( 2 ) 繞鍛性好，改善了表面的覆蓋度

( 3 ) 斷層質量好

( 4 ) 沉積速率高，成膜速度快

( 5 ) 錦膜所適用的基體材料與膜材范圍廣。